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物體界面的光化學(xué)清潔方法

談凱聲

談凱聲. 物體界面的光化學(xué)清潔方法[J]. 電子與信息學(xué)報, 1991, 13(6): 659-662.
引用本文: 談凱聲. 物體界面的光化學(xué)清潔方法[J]. 電子與信息學(xué)報, 1991, 13(6): 659-662.
Tan Kaisheng. PHOTOCHEMICAL CLEANING METHOD FOR THE INTERFACE[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1991, 13(6): 659-662.
Citation: Tan Kaisheng. PHOTOCHEMICAL CLEANING METHOD FOR THE INTERFACE[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1991, 13(6): 659-662.

物體界面的光化學(xué)清潔方法

PHOTOCHEMICAL CLEANING METHOD FOR THE INTERFACE

  • 摘要: 本文介紹了一種應(yīng)用光化學(xué)方法清除粘附在物體界面上的有機(jī)化合物的實(shí)驗(yàn);給出了它的工作機(jī)理,實(shí)驗(yàn)方法以及俄歇電子能譜分析結(jié)果。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,應(yīng)用紫外光/臭氧不僅能夠徹底地清除粘附在物體表面上的碳和碳?xì)浠衔?同樣可能徹底地清除粘附在物體界面上的污染物。
  • J. A. McKintock et al., J. Vac. Sci.Techn., 20(1982), 241-242.[2]談凱聲,李建平,電子科學(xué)學(xué)刊,8(1986),155-158.[3]J. R. Vig et al., Surface Studies for Quartz Resonators, in Proc. 28th Annu. Symp. on Frequency Control; U. S. Army Electronics Command Ft. Monmouth. N. J., AD 011113, (1974), pp. 96-108.[4]R. D. Peter, Ceramic flatpack enclosures for precision crystal units, in Proc. of the 30th Anon. Symp. on Frequency Control, (1976), pp. 224-231.[5]談凱聲,李建平,真空科學(xué)與技術(shù),6(1986),42-50.[6]談凱聲,祈宜芝,半導(dǎo)體學(xué)報,10(1989),236-240.[7]談凱聲,半導(dǎo)體學(xué)報,11(1990),301-304.[8]R. R. Sowell et al., J. Vac. Sci. Techn, 11(1974), 474-475.[9]V. N. Filimonov, Investigation of Sensitized Photooxidation of adsorbed Spectroscopy, in Elementary Phato-[10]processes in Molecules (B. S. Neporent, ed.), Consultants Bureau, New York, (1968), pp. 248-259.
  • 加載中
計量
  • 文章訪問數(shù):  1991
  • HTML全文瀏覽量:  135
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  • 被引次數(shù): 0
出版歷程
  • 收稿日期:  1990-06-07
  • 修回日期:  1991-02-25
  • 刊出日期:  1991-11-19

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