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吸波涂層目標(biāo)散射特性的復(fù)射線分析

阮穎錚 杜惠平

阮穎錚, 杜惠平. 吸波涂層目標(biāo)散射特性的復(fù)射線分析[J]. 電子與信息學(xué)報(bào), 1992, 14(3): 254-261.
引用本文: 阮穎錚, 杜惠平. 吸波涂層目標(biāo)散射特性的復(fù)射線分析[J]. 電子與信息學(xué)報(bào), 1992, 14(3): 254-261.
Ruan Yingzheng, Du Huiping. COMPLEX RAY ANALYSIS OF SCATTERING FROM RAM COATED TARGETS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1992, 14(3): 254-261.
Citation: Ruan Yingzheng, Du Huiping. COMPLEX RAY ANALYSIS OF SCATTERING FROM RAM COATED TARGETS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1992, 14(3): 254-261.

吸波涂層目標(biāo)散射特性的復(fù)射線分析

COMPLEX RAY ANALYSIS OF SCATTERING FROM RAM COATED TARGETS

  • 摘要: 將復(fù)射線理論推廣到媒質(zhì)有耗的情形,可以建立起損耗媒質(zhì)中的復(fù)射線方法并用來分析吸波涂層目標(biāo)的散射特性。該方法具有計(jì)算簡便、物理概念明確、適用范圍較廣等特點(diǎn)。本文以涂層金屬平板為例所進(jìn)行的目標(biāo)雷達(dá)截面分析結(jié)果表明,理論計(jì)算與實(shí)驗(yàn)結(jié)果能夠很好地吻合。
  • E. F. Knott等著,阮穎錚等譯,雷達(dá)散射截面預(yù)估、測量和減縮,電子工業(yè)出版社,北京,1988年11月.[2]徐曉文,涂層目標(biāo)散射特性及其模型側(cè)量的理論研究,電子科技大學(xué)博士學(xué)位論文,成都,1989年.[3]H. Ling, R. C. Chou, S.W. Lee, IEEE Trans. on AP, AP-37 (1989) 2,194-205.[4]R. Mittra (ed.), Computer Techniques for Electromagnetics, Pergamon Press, New York, (1973).[5]阮成禮,王秉中,部分涂覆機(jī)冀結(jié)構(gòu)RCS研究,軍用目標(biāo)特性和傳輸特性論文與簡要匯編,1989年,青島,第60-60頁.[6]阮穎錚,電子學(xué)報(bào),17(1989)3, 89-94.[7]M. Born, E. Wolf, Principle of Optics, 6th ed. Pergamon Press, New York, (1980).[8]阮穎錚編著,電磁射線理論基礎(chǔ),成都電訊工程學(xué)院出版社,成都,1989年4月.[9]阮穎錚,杜惠平,應(yīng)用科學(xué)學(xué)報(bào),10(1992)2,13-19.[10]阮穎錚,L. B. Felsen,應(yīng)用科學(xué)學(xué)報(bào),7 (1989) 2, 174-177.[11]阮穎錚,電子科學(xué)學(xué)刊,11 (1989) 4, 368-377.[12]馮文瀾,阮穎錚,電子科學(xué)學(xué)刊,12(1990)6, 664-667.[13]R. A. Ross, IEEE. Trans. on AP, AP-14 (1966) 3, 329-335.[14]賈寶福,強(qiáng)擾動(dòng)理論及其在隱身用吸波材料研究中的應(yīng)用,電子科技大學(xué)博士學(xué)位論文,成都,1989年.[15]阮穎錚,杜惠平,電子科技大學(xué)學(xué)報(bào),20 (1991)4, 368-374.
  • 加載中
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出版歷程
  • 收稿日期:  1990-11-25
  • 修回日期:  1991-09-17
  • 刊出日期:  1992-05-19

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