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電子束刻蝕超導(dǎo)膜的實(shí)驗(yàn)研究

林世昌,  張燕生,  柴璋,  李碧欽

林世昌, 張燕生, 柴璋, 李碧欽. 電子束刻蝕超導(dǎo)膜的實(shí)驗(yàn)研究[J]. 電子與信息學(xué)報, 1995, 17(5): 553-556.
引用本文: 林世昌, 張燕生, 柴璋, 李碧欽. 電子束刻蝕超導(dǎo)膜的實(shí)驗(yàn)研究[J]. 電子與信息學(xué)報, 1995, 17(5): 553-556.
Lin Shichang, Zhang Yansheng, Chai Zhang, Li Biqin. EXPERIMENTAL STUDIES OF ELECTRON BEAM SCULPTURE FOR SUPERCONDUCTING FILMS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1995, 17(5): 553-556.
Citation: Lin Shichang, Zhang Yansheng, Chai Zhang, Li Biqin. EXPERIMENTAL STUDIES OF ELECTRON BEAM SCULPTURE FOR SUPERCONDUCTING FILMS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1995, 17(5): 553-556.

電子束刻蝕超導(dǎo)膜的實(shí)驗(yàn)研究

EXPERIMENTAL STUDIES OF ELECTRON BEAM SCULPTURE FOR SUPERCONDUCTING FILMS

  • 摘要: 本文論述了掃描電子束對YBa2Cu3O7-超導(dǎo)膜進(jìn)行干法刻蝕的實(shí)驗(yàn)研究;試驗(yàn)了電子束工藝參數(shù)對刻蝕效果的影響;初步討論了超導(dǎo)膜改性的機(jī)制。掃描電子束能使被刻蝕的超導(dǎo)膜局部改性為非超導(dǎo)膜,將為干法制備超導(dǎo)器件提供一個有效的方法。
    Abstract: A dry sculpture experiment for YBa2Cu3O7- superconducting film using scanning electron beam is presented. The effects of beam technological parameters on sculpture result are tested. The modification mechanism for superconducting films is discussed prelimiarily.
    • HTML全文
  • Stohr J A, et al. Proc. First Int. Congress Vacuum Techniques, Namur, Belgium: 1958, Vol. II Pergamon, Ozford, 1960: 536-544.[2]胡俊寶,等.低溫與超導(dǎo),1991,19(1); 49-53.[3]Shnichi Shibata, et al. Jpn J. Appl. Phys. 1988, 27(4):L646-648.[4]柴璋.氧化物超導(dǎo)體的結(jié)構(gòu)特性和氧的非整比含量.中國化學(xué)會第四屆無機(jī)化學(xué)討論會論文摘要集.北戴河:1992,102.
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  • 被引次數(shù): 0
出版歷程
  • 收稿日期:  1994-01-28
  • 修回日期:  1995-05-16
  • 刊出日期:  1995-09-19

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