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微波放電等離子體源的研究

吳錦發(fā) 張二力 甄漢生 管祚堯

吳錦發(fā), 張二力, 甄漢生, 管祚堯. 微波放電等離子體源的研究[J]. 電子與信息學(xué)報, 1987, 9(5): 458-464.
引用本文: 吳錦發(fā), 張二力, 甄漢生, 管祚堯. 微波放電等離子體源的研究[J]. 電子與信息學(xué)報, 1987, 9(5): 458-464.
Wu Jinfa, Zhang Erli, Zhen Hansheng, Guan Zuoyao. RESEARCH ON MICROWAVE PLASMA SOURCE[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1987, 9(5): 458-464.
Citation: Wu Jinfa, Zhang Erli, Zhen Hansheng, Guan Zuoyao. RESEARCH ON MICROWAVE PLASMA SOURCE[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1987, 9(5): 458-464.

微波放電等離子體源的研究

RESEARCH ON MICROWAVE PLASMA SOURCE

  • 摘要: 利用電子迴旋共振(ECR)的原理,在10-310-1Pa的低壓強下,已成功地產(chǎn)生了高活性,高密度的微波等離子體。運用靜電探針裝置,研究了N2、Ar放電中微波功率、氣體壓強對等離子體參量的影響,并對放電等離子體進行了質(zhì)譜分析。
      關(guān)鍵詞:
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  • 張二力,吳錦發(fā),甄漢生,真空科學(xué)與技術(shù),1985年,第6期,第49頁.[2]吳錦發(fā)等,微細加工技術(shù),1985年,第2期,第6頁.[3]甄漢生等,電子科學(xué)學(xué)刊,9(1987), 135.[4]項志遴等著,高溫等離子體診斷技術(shù),上??茖W(xué)技術(shù)出版社,1982.[5]鈴木敬三等,電子材料(日),20(1981)5,111.[6]管柞堯等,北京真空學(xué)會技術(shù)報告,1985,7.[7]C. Cohen, Electronics, 54(1951)22, 82.[8]M. Miyamura et al., J. Vac. Sci. Technol., 20(1982), 986.
  • 加載中
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  • 被引次數(shù): 0
出版歷程
  • 收稿日期:  1985-10-08
  • 修回日期:  1900-01-01
  • 刊出日期:  1987-09-19

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