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電子束泵浦KrF受激準分子激光器

顧之玉 趙仲宏 王紹英 吳承懋 夏能樵 周厚琳

顧之玉, 趙仲宏, 王紹英, 吳承懋, 夏能樵, 周厚琳. 電子束泵浦KrF受激準分子激光器[J]. 電子與信息學報, 1979, 1(1): 7-12.
引用本文: 顧之玉, 趙仲宏, 王紹英, 吳承懋, 夏能樵, 周厚琳. 電子束泵浦KrF受激準分子激光器[J]. 電子與信息學報, 1979, 1(1): 7-12.

電子束泵浦KrF受激準分子激光器

  • 摘要: 本文報道了我國研制的第一臺用高能電子束橫向泵浦NF3、Kr和Ar混合物的KrF激光器。獲得了2484(~3mJ)的激光輸出??偣ぷ鳉鈮簭?60托變到2660托均有激光輸出。給出了KrF激光譜線、熒光譜線私激光光斑。還介紹了分氣壓不變時,激光光譜和激光輸出功率隨總氣壓變化的關系,中心波長隨氣壓變化的關系,以及在固定氣壓下變化分氣壓比時,激光功率和激光光譜變化的情況。測得了中心波長隨分氣壓比位移的實際值。研究了氣體混合時間對出光的影響,以及多次泵浦對激光輸出的影響。并在輸出閾值、輸出功率、激光和熒光譜線方面與國外同類型器件進行了比較。
      關鍵詞:
    •  
  • S. K. Searles and G. A. Hart, Appl. Phys. Lett.,27(1975). 243.[2]J. J. Ewing and C. A. Brau, Appl. Phys. Lett., 27(1975), 350.[3]C. A. Brau and J. J. Ewing, Appl. Phys. Lett., 27(1975), 435.[5]G. C. Tisone, A. K. Hays and J. M. Hoffman. Optios Communication, 15(1975). 188.[6]M .L. Bhaumilk. R. S. Bradford. Jr. and F. R. Ault. Appl. Phys. Lett, 28(1978), 23.[7]J. R. Murray and H. T. Powell, Appl. Phys. Lett., 29(1978), 252.[9]J. M. Hoffman, A. K. Hago and G. C. Tisone. Appl. Phys. Lett.,28(1976), 538.[10]顧之玉、趙仲宏、翟寶光、吳承懋, 電子學報,1(1978) 2, 93.
  • 加載中
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  • 被引次數(shù): 0
出版歷程
  • 收稿日期:  1978-10-06
  • 刊出日期:  1979-03-19

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