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耗盡型選擇性摻雜異質(zhì)結(jié)晶體管

陳定欽 張曉玲 熊思強(qiáng) 高翠華 周帆

陳定欽, 張曉玲, 熊思強(qiáng), 高翠華, 周帆. 耗盡型選擇性摻雜異質(zhì)結(jié)晶體管[J]. 電子與信息學(xué)報, 1990, 12(1): 100-102.
引用本文: 陳定欽, 張曉玲, 熊思強(qiáng), 高翠華, 周帆. 耗盡型選擇性摻雜異質(zhì)結(jié)晶體管[J]. 電子與信息學(xué)報, 1990, 12(1): 100-102.
Chen Dingqin, Zhang Xiaoling, Xiong Siqiang, Gao Cuihua, Zhou Fan. DEPLETION MODE SELECTIVE DOPED HETEROJUNCTION TRANSISTOR[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(1): 100-102.
Citation: Chen Dingqin, Zhang Xiaoling, Xiong Siqiang, Gao Cuihua, Zhou Fan. DEPLETION MODE SELECTIVE DOPED HETEROJUNCTION TRANSISTOR[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(1): 100-102.

耗盡型選擇性摻雜異質(zhì)結(jié)晶體管

DEPLETION MODE SELECTIVE DOPED HETEROJUNCTION TRANSISTOR

  • 摘要: 設(shè)計和研制了耗盡型選擇性摻雜異質(zhì)結(jié)晶體管。外延選擇性摻雜材料是由本所Fs-Ⅲ型分子束外延爐生長的。制作器件的材料在室溫下,霍爾測量的電子遷移率為6500cm2/vs,二維薄層電子濃度ns=91011cm2。在77K時n=75000cm2/vs。測量了具有柵長1.21.5m,柵寬2180m耗盡型異質(zhì)結(jié)器件的直流特性和器件的跨導(dǎo),室溫下gm=110~130ms/mm,而低溫77K時,可達(dá)到200ms/mm。
  • Paul M. Solomon, Hadis Morkoc, IEEE Trans. on ED, ED-31(1984)8, 1015.
  • 加載中
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出版歷程
  • 收稿日期:  1988-01-24
  • 修回日期:  1989-08-21
  • 刊出日期:  1990-01-19

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