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靜電離心聚焦系統(tǒng)中相對(duì)論性電子注的理論分析

張世昌

張世昌. 靜電離心聚焦系統(tǒng)中相對(duì)論性電子注的理論分析[J]. 電子與信息學(xué)報(bào), 1987, 9(3): 283-288.
引用本文: 張世昌. 靜電離心聚焦系統(tǒng)中相對(duì)論性電子注的理論分析[J]. 電子與信息學(xué)報(bào), 1987, 9(3): 283-288.
Zhang Shichang. THEORETICAL ANALYSIS OF THE RELATIVISTIC E-BEAM IN A CENTRIFUGAL ELECTROSTATIC FOCUSING SYSTEM[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1987, 9(3): 283-288.
Citation: Zhang Shichang. THEORETICAL ANALYSIS OF THE RELATIVISTIC E-BEAM IN A CENTRIFUGAL ELECTROSTATIC FOCUSING SYSTEM[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1987, 9(3): 283-288.

靜電離心聚焦系統(tǒng)中相對(duì)論性電子注的理論分析

THEORETICAL ANALYSIS OF THE RELATIVISTIC E-BEAM IN A CENTRIFUGAL ELECTROSTATIC FOCUSING SYSTEM

  • 摘要: 本文對(duì)靜電離心聚焦系統(tǒng)中相對(duì)論性電子注與波換能過程進(jìn)行了原理性研究,給出了動(dòng)力學(xué)線性理論分析。對(duì)有關(guān)工程問題進(jìn)行了討論,提出了電子注斜注入的設(shè)想。
      關(guān)鍵詞:
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  • D. A. Waktis and G. Wade, Proc. IRE, 46(1958), 1700.[2]劉盛綱,物理學(xué)報(bào),15(1959), 575.[3]R. H. Pantell, IRE Trans. on ED, ED-7(1960), 22.[4]R. H. Pantell, ibid., ED-8(1961), 39.[5]I. Alexeff and F. Dyer, Phys. Rev. Lett., 45(1980), 351.[6]I. Alexeff, F. Dyer and W. Nakonieczny, Int. J. IR/MM Waves, 6(1985), 481.[7]Liu Shenggang, 10th Int. Conf. on IR/MM Waves, Dec. 1985.[8]劉盛綱,張世昌,楊中海,陳曉東,歐陽征標(biāo),J. Appl. Phys. 11(1986), 3621.[9]K. R. Chu,成都電訊工程學(xué)院講學(xué)報(bào)告,1981,成都.
  • 加載中
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出版歷程
  • 收稿日期:  1986-01-28
  • 修回日期:  1986-05-20
  • 刊出日期:  1987-05-19

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