1986, 8(3): 204-208.
摘要:
本文提出了一種新的多能量離子注入的計(jì)算方法等效面積法。應(yīng)用這一方法可按器件的特殊要求,任意設(shè)計(jì)各種濃度分布。 本文應(yīng)用這一方法,設(shè)計(jì)和計(jì)算了具有矩形雜質(zhì)分布的Si-RAPD器件,具有低一高一低特殊分布的Si-RAPD和具有馬頭型結(jié)構(gòu)的 GaAs M-ESPET器件,IMPATT器件,均得到了較為滿意的結(jié)果。還對(duì)用這一方法設(shè)計(jì)新型器件的前景作了預(yù)測(cè),最后把本文的計(jì)算結(jié)果與本納德(R.H.Benhard)(1977)的實(shí)測(cè)值作了比較,結(jié)果是令人滿意的。