1984, 6(2): 172-175.
摘要:
正 (一)引言 近年來InP在光電和微波器件中的應用已引起廣泛重視。對InP的歐姆接觸和肖特基勢壘已有報道,這些結果表明,Bp較Bn大,n-InP的比接觸電阻較p-lnP的低。以InP為襯底的多層結構器件中,表面層有時是p-InP,因此研究p-InP與接觸金屬界面上的冶金行為和電學特性,對改善器件參數(shù)和提高器件的可靠性有實際意義。對p-InP與接觸金屬Pd,Mg/Ag,Au-Zn,Mg/Au,Pd/Ag的界面特性,已有用俄歇電子能譜(AES)和電子探針(EP)進行的研究結果