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1982年 第4卷 第1期
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1982, 4(1): 1-7.
摘要:
本文討論陰極電子學(xué)與物理學(xué)基礎(chǔ)理論間的相互關(guān)系。從體效應(yīng)中總結(jié)出來(lái)的固體理論,不能有效地解釋電子發(fā)射的問(wèn)題,因?yàn)殡娮影l(fā)射主要地來(lái)源于表面。另一方面,各種形式的電子發(fā)射可用作探測(cè)固體表面的手段,對(duì)建立表面科學(xué)提供更多的信息。此外,文中對(duì)陰極電子學(xué)的性質(zhì)和發(fā)展概況也作了論述。
本文討論陰極電子學(xué)與物理學(xué)基礎(chǔ)理論間的相互關(guān)系。從體效應(yīng)中總結(jié)出來(lái)的固體理論,不能有效地解釋電子發(fā)射的問(wèn)題,因?yàn)殡娮影l(fā)射主要地來(lái)源于表面。另一方面,各種形式的電子發(fā)射可用作探測(cè)固體表面的手段,對(duì)建立表面科學(xué)提供更多的信息。此外,文中對(duì)陰極電子學(xué)的性質(zhì)和發(fā)展概況也作了論述。
1982, 4(1): 8-19.
摘要:
本文從廣義電報(bào)方程出發(fā),在確定的邊界條件和連續(xù)性條件下,得到了緩變截面波導(dǎo)腔中振蕩模的諧振頻率、品質(zhì)因數(shù)和場(chǎng)分布的公式。著重研究了開放式緩變圓截面波導(dǎo)腔中HORP模振蕩,特別是這些模在開口處的衍射損耗;最后對(duì)常用的一種雙圓錐開放腔體進(jìn)行了分析,得到了一組較為通用的諸振頻率和品質(zhì)因數(shù)的曲線。已有的實(shí)驗(yàn)證實(shí)了曲線的可靠性。
本文從廣義電報(bào)方程出發(fā),在確定的邊界條件和連續(xù)性條件下,得到了緩變截面波導(dǎo)腔中振蕩模的諧振頻率、品質(zhì)因數(shù)和場(chǎng)分布的公式。著重研究了開放式緩變圓截面波導(dǎo)腔中HORP模振蕩,特別是這些模在開口處的衍射損耗;最后對(duì)常用的一種雙圓錐開放腔體進(jìn)行了分析,得到了一組較為通用的諸振頻率和品質(zhì)因數(shù)的曲線。已有的實(shí)驗(yàn)證實(shí)了曲線的可靠性。
1982, 4(1): 20-34.
摘要:
本文介紹三相橋式整流電路內(nèi)、外部短路電流的計(jì)算方法.文中分暫態(tài)過(guò)程及穩(wěn)態(tài)過(guò)程兩部分，其中一部分分析方法是作者提出的.根據(jù)文中所介紹的計(jì)算方法，繪制了數(shù)種實(shí)用曲線，供讀者參考使用.
本文介紹三相橋式整流電路內(nèi)、外部短路電流的計(jì)算方法.文中分暫態(tài)過(guò)程及穩(wěn)態(tài)過(guò)程兩部分，其中一部分分析方法是作者提出的.根據(jù)文中所介紹的計(jì)算方法，繪制了數(shù)種實(shí)用曲線，供讀者參考使用.
1982, 4(1): 35-45.
摘要:
本文通過(guò)對(duì)阿爾法微型計(jì)算機(jī)的系統(tǒng)初始化命令文件的探討,提出縮小操作系統(tǒng)的方法,指出原文件中存在的一些問(wèn)題并提出了改進(jìn)的措施。改進(jìn)后的文件可使該機(jī)在帶有5個(gè)終端和5個(gè)作業(yè)的情況下,操作系統(tǒng)的大小小于16K字節(jié)。提出了兩種消除因用戶使用MEMORY0命令而引起的機(jī)器工作不正常的方法。給出了一個(gè)新文件的實(shí)例及其實(shí)驗(yàn)結(jié)果。此外,還從實(shí)用的角度出發(fā),論討了這種計(jì)算機(jī)最大可帶的終端數(shù)和作業(yè)數(shù)。
本文通過(guò)對(duì)阿爾法微型計(jì)算機(jī)的系統(tǒng)初始化命令文件的探討,提出縮小操作系統(tǒng)的方法,指出原文件中存在的一些問(wèn)題并提出了改進(jìn)的措施。改進(jìn)后的文件可使該機(jī)在帶有5個(gè)終端和5個(gè)作業(yè)的情況下,操作系統(tǒng)的大小小于16K字節(jié)。提出了兩種消除因用戶使用MEMORY0命令而引起的機(jī)器工作不正常的方法。給出了一個(gè)新文件的實(shí)例及其實(shí)驗(yàn)結(jié)果。此外,還從實(shí)用的角度出發(fā),論討了這種計(jì)算機(jī)最大可帶的終端數(shù)和作業(yè)數(shù)。
1982, 4(1): 46-52.
摘要:
本文從分析9顯象管電子槍的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)出發(fā),討論了影響熒光屏上電子束光點(diǎn)尺寸的三個(gè)主要因素:透鏡放大率、球面象差和空間電荷效應(yīng)。提出了用減小調(diào)制極孔徑,增大調(diào)制極與加速極之間的距離等方法來(lái)減小電子束最小交叉截面的尺寸和電子束的發(fā)散張角;并且以調(diào)整電子槍在顯象管內(nèi)的位置,即增大它與偏轉(zhuǎn)線圈之間的相對(duì)距離,來(lái)減小偏轉(zhuǎn)線圈雜散磁場(chǎng)所引起的偏轉(zhuǎn)散焦;從而有效地改善了整管的聚焦性能,并明顯地提高了邊緣部分的分辨率。 試驗(yàn)結(jié)果和批量生產(chǎn)的管子測(cè)試表明:上述方法是卓有成效的,其邊緣分辨率能提高50線以上。
本文從分析9顯象管電子槍的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)出發(fā),討論了影響熒光屏上電子束光點(diǎn)尺寸的三個(gè)主要因素:透鏡放大率、球面象差和空間電荷效應(yīng)。提出了用減小調(diào)制極孔徑,增大調(diào)制極與加速極之間的距離等方法來(lái)減小電子束最小交叉截面的尺寸和電子束的發(fā)散張角;并且以調(diào)整電子槍在顯象管內(nèi)的位置,即增大它與偏轉(zhuǎn)線圈之間的相對(duì)距離,來(lái)減小偏轉(zhuǎn)線圈雜散磁場(chǎng)所引起的偏轉(zhuǎn)散焦;從而有效地改善了整管的聚焦性能,并明顯地提高了邊緣部分的分辨率。 試驗(yàn)結(jié)果和批量生產(chǎn)的管子測(cè)試表明:上述方法是卓有成效的,其邊緣分辨率能提高50線以上。
1982, 4(1): 53-59.
摘要:
本文介紹了由TEA CO2激光器的9R(12)躍遷線泵浦冷卻的 CF4分子,獲得 16m激光輸出。泵浦光用限孔光闌得到TEMoo單橫模,由低氣壓CO2增益池壓縮線寬,并與光泵腔良好的模式匹配下,以700mJ的泵浦源能量獲得25mJ左右的16m激光輸出能量。光量子轉(zhuǎn)換效率達(dá)7％左右。激光脈寬窄于150ns,該器件可在約0.5Hz重復(fù)率下,以20mJ的輸出能量運(yùn)轉(zhuǎn)數(shù)千次。
本文介紹了由TEA CO2激光器的9R(12)躍遷線泵浦冷卻的 CF4分子,獲得 16m激光輸出。泵浦光用限孔光闌得到TEMoo單橫模,由低氣壓CO2增益池壓縮線寬,并與光泵腔良好的模式匹配下,以700mJ的泵浦源能量獲得25mJ左右的16m激光輸出能量。光量子轉(zhuǎn)換效率達(dá)7％左右。激光脈寬窄于150ns,該器件可在約0.5Hz重復(fù)率下,以20mJ的輸出能量運(yùn)轉(zhuǎn)數(shù)千次。
1982, 4(1): 60-68.
摘要:
通道式電子倍增器矩陣(CEMA)又稱微通道板(MCP)是由特殊玻璃制成的單通道電子倍增器平行排列成的。MCP是多種帶能粒子和光子的探測(cè)器,它可以提供一個(gè)增益高和均勻性好的大的工作面。 本文概述了MCP的工作原理,介紹了制造MCP的主要工藝,簡(jiǎn)要討論了MCP的基本參數(shù)和應(yīng)用。
通道式電子倍增器矩陣(CEMA)又稱微通道板(MCP)是由特殊玻璃制成的單通道電子倍增器平行排列成的。MCP是多種帶能粒子和光子的探測(cè)器,它可以提供一個(gè)增益高和均勻性好的大的工作面。 本文概述了MCP的工作原理,介紹了制造MCP的主要工藝,簡(jiǎn)要討論了MCP的基本參數(shù)和應(yīng)用。
1982, 4(1): 69-70.
摘要:
正 空間技術(shù)的發(fā)展向電子器件提出了高可靠、長(zhǎng)壽命的要求,這又使電子器件向陰極提出了同樣的要求。在國(guó)外,解決的辦法是,使用以鋯鎳或鎢鋯鎳作基金屬的氧化物陰極,再加上高水平的造管工藝等措施來(lái)保證電子器件的高可靠和長(zhǎng)壽命。我們根據(jù)當(dāng)前國(guó)內(nèi)
正 空間技術(shù)的發(fā)展向電子器件提出了高可靠、長(zhǎng)壽命的要求,這又使電子器件向陰極提出了同樣的要求。在國(guó)外,解決的辦法是,使用以鋯鎳或鎢鋯鎳作基金屬的氧化物陰極,再加上高水平的造管工藝等措施來(lái)保證電子器件的高可靠和長(zhǎng)壽命。我們根據(jù)當(dāng)前國(guó)內(nèi)
1982, 4(1): 71-72.
摘要:
正 倒象式第二代微光管和雙近貼式第二、第三代微光管,對(duì)熒光屏提出了新的特殊要求,這就是除達(dá)到成象器件所需要的高亮度、高分辨率外,為了保證高象質(zhì),還必須能夠在高電場(chǎng)強(qiáng)度下正常工作而不被破壞
正 倒象式第二代微光管和雙近貼式第二、第三代微光管,對(duì)熒光屏提出了新的特殊要求,這就是除達(dá)到成象器件所需要的高亮度、高分辨率外,為了保證高象質(zhì),還必須能夠在高電場(chǎng)強(qiáng)度下正常工作而不被破壞
